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酸性蚀刻液，是一种铜版画雕刻用原料。通过侵蚀材料的特性来进行雕刻。
主要成分：氯化铜、氨水、氯化氨,，补助成分为氯化钻、氯化钠、氯化胺或其它含硫化合物以改善特性。
适用领域：一般适用于多层印制板的内层电路图形的制作及纯锡印制板的蚀刻。
主要特点：蚀刻速率快，可达每分钟70微米以上；溶铜能力高，蚀刻容易控制；蚀刻液能连续再生循环使用，成本低。
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以酸性氯化铜蚀刻液为例。酸性氯化铜，根据添加不同的氧化剂又可细分为盐酸氯化铜与空气体系、盐酸氯化铜与氯酸钠体系、盐酸氯化铜与双氧水体系三种蚀刻工艺，在生产过程中通过补加盐酸与空气、盐酸与氯酸钠、盐酸与双氧水和少量的添加剂来实现线路板板的连续蚀刻生产。
影响蚀刻速率的因素：影响蚀刻速率的主要因素是溶液中氯离子、铜离子、亚铜离子的含量及蚀刻液的温度等。