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三氟化氮，化学式ＮＦ3，常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。三氟化氮是低毒性物质，但是它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜，腐蚀组织。吸入高浓度ＮＦ３可引起头痛、呕吐和腹泻。长期吸入低浓度ＮＦ３能损伤牙齿和骨骼，使牙齿生黄斑，骨骼成畸形。与还原剂能发生强烈反应，引起燃烧爆炸。
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